Виды оксидирования

 

Оксидирование – это метод образования оксидных пленок на металлической поверхности. Этот способ широко используется для нанесения оксидных слоев, как для придания изделию из метала декоративных свойств, так и в целях защиты. Этот процесс создает такую же надежную защиту, как и цинкование.

Оксидирование может быть нескольких видов:

  • Химическое;
  • Термическое;
  • Анодное;
  • Плазменное.

Химическое оксидирование

Химическое оксидирование осуществляется путем обработки изделия в специальных растворах. Для черных металлов оксидирование осуществляется при температуре от 30 до 100 градусов Цельсия в щелочных или кислотных составах. При кислотном оксидировании используются смеси нескольких кислот, например, соляная и азотная кислоты с некоторыми добавками. Щелочное оксидирование осуществляется при более высоких температурах – 30-180 градусов Цельсия.

Термическое оксидирование

Это способ образования пленки на металлической поверхности в кислородосодержащих атмосферах при повышенных температурах. Осуществляется он в нагревательных печах. При оксидировании железа или низколегированной стали температуру доводят до 300-350 градусов. Термическое оксидирование легированных сталей осуществляется при более высоких температурах – до 700 градусов Цельсия. Длится этот процесс примерно 60 минут, как и цинкование. Часто этот метод используют для создания оксидного слоя на изделиях из кремния. Проводится это процесс при достаточно высоких температурах – 800-1200 градусов Цельсия. Используются кремниевые оксидированные изделия в электронике.

Анодирование

Это еще один метод получения оксидной пленки. Осуществляется этот метод в твердых или жидких электролитах. При анодировании металл, который окисляется, обладает положительным потенциалом. Анодирование используют для получения декоративных и защитных слоев на поверхностях различных сплавов и металлов.

Обычно этот метод используют для получения покрытия на алюминии, с защитными, износостойкими, изоляционными и декоративными свойствами.

Плазменное оксидирование

Плазменное оксидирование осуществляется при низких температурах в специальной плазме, которая содержит кислород. Плазма для этого метода оксидирования образуется с помощью разрядов тока постоянной частоты, ВЧ, СВЧ разрядов. Используется этот метод для получения оксидных слоев на разных полупроводниковых соединениях, поверхности изделий из кремния. Плазменное оксидирование повышает светочувствительность секребряных и цизиевых фотокатодов.

Похожие материалы